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意力博通系列离子溅射
依据二极(DC)直流溅射原理。溅射电流调整控制器、微型真空气阀在工作时结合内部自动控制电路控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体。
咨询电话:400-1001-303

 

     仪器名称:全自动离子溅射仪    型号:ETD-800

     原理:二极直流溅射

 

 

     仪器名称:离子溅射仪 型号:ETD-900M

     原理:磁控溅射

     在磁控溅射中,由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力,它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产

     生螺旋运动,其运动路径变长,因而增加了与工作气体分子碰撞的次数,使等离子体密度增 加,从而磁控溅射速率得到很大的提高,而且可以在较低的溅射电压和气压下工作。同时,经过多次碰撞而丧失能 量的电子到达阳极时,已变成低能电子,从而不会使基片过热。

产品参数

     ETD-800参数:

     主机规格:260mm×307mm×260mm(W×D×H)

     电源规格:220V/50HZ

     靶(上部电极):50mm×0.1mm(D×H)

     靶材:Au

     真空样品室: 硼硅酸盐玻璃 115mm×100mm(D×H)

     定时器: zui 长时间:3600S

     机械泵: 1L/S

     zui 高电压:-1200  DCV

 

     ETD-900M参数:

     主机规格:300mm×360mm×380mm(W×D×H)

     靶(上部电极):50mm×0.1mm(D×H)

     靶材:Au(标配)

     样品室:硼硅酸盐玻璃 160mm×120mm(D×H)

     靶材尺寸:Ф 50mm

     真空指示表: zui 高真空度:≤ 4X10-2 mbar

     离子电流表: zui 大电流:50mA

     定时器:zui 长时间:0-360S 

     微型真空气阀:可连接φ 3mm 软管

     可通入气体: 多种

     zui 高电压: -1600 DCV 

     机械泵:标准配置 2L/S(国产 VRD-8)

 

特点与用途:


     ETD-800用途:

     适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备。

     特点:

     可以通过更换不同的靶材(金、铂、银等),以达到细颗粒的涂层。

     一键式操作,使用方便。


     ETD-900M用途:

     适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。


     特点:

     1、简单、经济、可靠、外观精美。

     2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。

     3、SETPLASMA 手动启动按钮可预先设置好压强和溅射电流避免对膜造成不必要的 损 伤。

     4、真空保护可避免真空过低造成设备短路。

     5、同时可以通过更换不同的靶材(金、铂、铱、银、铜等),以达到更细颗粒的涂层。

     6、通过通入不同的惰性气体以达到更纯净的涂层。

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